近年來，材料領(lǐng)域的透射電鏡制樣設(shè)備推陳出新，制樣方法也隨之越來越先進、高效。但是，對于薄膜/基體截面樣品、金屬樣品、陶瓷樣品、剪切帶定點樣品等制備難度較大的樣品，如何使用這些先進的設(shè)備，快速制備出高質(zhì)量的透射電鏡樣品，需要正確地使用制樣設(shè)備，需要摸索一些技巧，需要不斷積累經(jīng)驗。

  中國計量科學(xué)研究院納米新材料所博士后李旭給我們分享一些這方面制樣的經(jīng)驗和體會。

精彩問答摘錄如下：

Q：一般來說，薄區(qū)邊緣的非晶層約有多厚？

A：薄區(qū)邊緣的非晶厚度，受材料本身，減薄參數(shù)等影響，可能有1~10個納米厚。

Q：請問做不耐離子束減薄的樣品，有什么好的辦法？例如熱電樣品？

A：有些材料，不能經(jīng)受離子束的溫度而發(fā)生流變，或者受熱會發(fā)生內(nèi)部結(jié)構(gòu)的變化，這些樣品，可以嘗試做雙噴減薄或超薄切片。

Q：請問什么材料用那種拋光布之類的研磨材料？

A：拋光布的選擇，是要根據(jù)你的樣品材料，鋁合金銅合金等通常選用彈性高的拋光布，在購買時，銷售商會給你提供相關(guān)信息和選擇

Q：制備薄膜樣品用什么膠好點？

A：通常使用Mbond 610膠，也有用G2膠等其他膠的

Q：可不可以送樣品去做減?。?/strong>

A：可以

Q：李老師用RES102減薄過藍寶石襯底的截面樣品嗎？效果如何？

A：藍寶石襯底減薄后屬于較硬較脆的材料，我目前沒做過，只做過一些SiN陶瓷類的樣品。

Q：李老師您好！剛才您講的都是透射電鏡的樣品制備，請問掃描電鏡的樣品也是可以這樣制備嗎？

A：LEICA離子減薄儀既可以做透射電鏡樣，也可以做掃描電鏡樣，有兩種功能，具體你可以咨詢廠家，并且做好的透射樣，也可以直接做掃描電鏡或做EBSD，質(zhì)量非常好。

Q：NdFeB的樣品可不可以做？

A：該樣品是半導(dǎo)體材料，還是金屬復(fù)合材料？如果是屬于這兩類，離子減薄可以做。當(dāng)然，如果該材料有磁性，那做好樣品后，還是要在專門的磁性樣品電鏡上去做。

Q：M610膠粘貼樣品的時候的使用注意事項能再說一下嗎？

A：每次用時，盡量少配，用的時候用針尖粘涂，在涂抹樣品邊緣時，盡量要均勻，不要過多，涂好后，輕微緩慢加熱，不要加熱太快，溫度太高?；蛘卟患訜?，直接室溫放置一天，讓膠自然凝固。

Q：離子減薄精修的時候，精修時間長薄區(qū)就大么？薄區(qū)是在減薄時出來的，還是精修時出來的？

A：薄區(qū)是有一定面積范圍的，不是精修時間長薄區(qū)就大，薄區(qū)在減薄時就出來了一部分，精修時可以使薄區(qū)擴大到一定面積范圍。

Q：離子減薄會不會對我樣品的晶體缺陷造成影響呢？

A：一般來說離子減薄會導(dǎo)致樣品溫度升高，溫度可能會達到幾十度或100度左右，如果樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)對溫度敏感，建議在減薄時配液氮冷卻裝置。但徠卡的離子束相對來說對樣品損傷度很小。

Q：就是什么材料會用到拋光布？

A：如果是Leica EM TXP和離子減薄結(jié)合，絕大部分材料都不需要用拋光布了。

Q：請問怎樣做出盡量大的薄區(qū)？薄區(qū)是在減薄時出來的，還是精修時出來的？過長的精修時間會減小薄區(qū)嗎？

A：要獲得大的薄區(qū)，減薄角度要小，旋轉(zhuǎn)面積要大，離子槍的能量不能太高。當(dāng)然，時間會很長。

Q：請問李老師M610膠粘貼樣品使用的溫度是多少？

A：-100度到200度的樣子吧，具體請看MBond的使用說明書。

Q：李老師您好，您有沒有做過半導(dǎo)體材料的減?。课覀冄芯康氖蔷w單層，不知道您有沒有了解？

A：做過大量單晶硅和鈮薄膜，氧化鉿等半導(dǎo)體金屬材料的樣品，最薄的1.5nm的金屬薄膜的橫截面樣品，也成功做出來。

Q：多孔類或內(nèi)部中空的樣品，用什么樹脂包埋比較好？

A：用低連稠度的樹脂，例如Spurr。并需要輔助抽真空去氣步驟，確保樹脂充分滲透。

Q：我以前做過硅上鍍薄膜的截面樣品，基本按李老師您講的方法做的。但是薄膜太容易被濺射掉了，等把樣品打斷時，薄區(qū)的薄膜已經(jīng)全部被離子打沒了，請問這種情況怎么解決？

A：這種情況，很可能是膠沒粘好，膠不能太厚，并且要與兩個對粘樣品直接嚴實粘連，然后就是橫截面樣品一定要在進離子減薄前，機械減薄得很薄，如果能做到10um左右的厚度， 那就非常好了。

徠卡相關(guān)設(shè)備

Leica EM RES102多功能離子減薄儀